含鉻DLC薄膜的新型沉積設備利制備工藝

2007年

應用技術

成果簡介

將封閉場非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射、離子輔助濺射和脈沖工件負偏壓結合在一起，研制出新型中頻對靶磁控濺射系統；揭示了磁控靶電壓波形、脈沖等離子體參數和合成的類金剛石（DLC）薄膜結構及性能的關聯性，通過摻入Cr元素來降低DLC薄膜的內應力和改善其附著力，利用研制的鍍膜系統合成了含鉻DLC薄膜，并對含鉻DLC膜的摩擦磨損性能進行了系統表征。本項目建立了制各優質薄膜所需的中頻對靶磁控濺射系統利...

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