等離子體化學氣相沉積硬膜技術

1998年

應用技術

成果簡介

等離子體化學氣相沉積（PCVD）硬膜技術是利用等離子體的激發作用，把傳統的化學氣相沉積（CVD）的溫度由1000℃降到55℃左右，從而使PCVD兼有CVD的良好的繞鍍性和物理氣相沉積（PVD）的低溫鍍膜的特點。該項成果建成了ф200×1500mm的管式PCVD機和ф420×450mm鐘罩式PCVD機各一臺，在世界上第一個使PCVD硬膜技術達到實用水平，成功應用于工業生產，生產過程自動化，產...

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等離子體化學氣相沉積硬膜技術

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