脈沖輔助過濾電弧沉積薄膜裝置

2001年

應用技術

成果簡介

該實用新型專利是一種表面多弧離子鍍膜裝置。它在真空室中密封安裝了通入氣體的機構，真空室壁接地為陽極，其上安裝至少一個欲鍍材料的電弧蒸發源靶，并與直流電源的陰極相連接；在真空室底部有一放置工件的支架，支架下有向工件提供加熱的機構和偏壓電源，在所述的真空室內電弧蒸發源靶下方安置至少一個直線型磁場線圈，支架下向工件提供偏壓的電源是脈沖偏壓的電源/直流偏壓的電源，每個電源通過開關與工件電連接。...

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脈沖輔助過濾電弧沉積薄膜裝置

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